臺式掃描電鏡噴金是為了什么？

更新時間：2022-08-08

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　　臺式掃描電鏡噴金是為了什么？我們知道掃描電子顯微鏡（SEM）的樣品處理的要求中有一個是，樣品表面一定要導電。

　　在大多數(shù)情況下，初級電子束電荷數(shù)量都大于背散射電子和二次電子數(shù)量之和，因此多余的電子須導入地下，即樣品表面電位須保持在0電位。如果樣品表面不導電，或者樣品接地線斷裂，那么樣品表面靜電荷存在，使得表面負電勢不斷增加，出現(xiàn)充電效應，使圖像畸變，入射電子束減速，此時樣品如同一個電子平面鏡。

　　非導電樣品絕緣電阻大，在電子束掃描下，樣品表面逐漸積累負電荷，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不穩(wěn)定，并隨機偏轉二次電子，造成圖像晃動、亮度突變、出現(xiàn)無規(guī)則的明暗條紋，也就是所謂的“荷電效應”。

樣品未噴金ZEM15臺式掃描電鏡成像

樣品噴金后ZEM15臺式掃描電鏡成像

　　通常在樣品表面鍍一層導電膜可以提高樣品的導電性，表面的負電荷通過導電膜釋放入地，消除荷電。電荷釋放的前提是膜層要與金屬樣品臺相連接，形成導電通道，此外連續(xù)的導電膜也可以提高樣品的導熱性，減小熱損傷。目前常用的鍍膜技術為真空蒸發(fā)和離子濺射。

　　常用的鍍膜材料有C、Al、Cr、Au、Pt、Au-Pd合金。金膜二次電子產(chǎn)率高、覆蓋性好、鍍膜容易，是常用的材料，但顆粒較大，適用于中低范圍的分辨率、兩萬倍以下的圖像。Pt和Au-Pd合金膜的顆粒要細得多，適用于高分辨率圖像。使用場發(fā)射電鏡對膜層要求更高，至少要在20萬倍下膜層不能顯現(xiàn)結構，高真空鍍Cr可以滿足要求。C膜均勻性好，導電導熱效率高，又是比較經(jīng)濟的材料，只是二次電子產(chǎn)率低，不適合高倍圖像。

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